EUV 검사기 장비 기술 및 인프라 구축 기술지원
[EUV 검사기 장비 기술 및 인프라 구축 기술지원 핵심 요약]
반도체 핵심 기술의 국산화와 상용화를 앞당길 소중한 기회입니다.
글로벌 반도체 시장의 주도권을 쥐기 위한 EUV(극자외선) 기술의 중요성이 갈수록 커지고 있습니다.
핵심 정보
| 접수기간 | 2026년 7월 20일(월) ~ 11월 20일(금) 18:00까지이며, 3개사 선정 시 상시모집이 조기 종료될 수 있습니다. |
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| 지원대상 | 전국 EUV 소재·부품·장비 관련 중소·중견기업이 대상입니다. |
| 지원규모 | 전국 3개사 내외를 선정하며, 기업당 최대 1,500만 원(15,000천 원) 이내를 지원합니다. |
수록 내용
- 이에 산업통상자원부와 대전테크노파크에서 EUV 소부장 기업을 대상으로 시제품 제작과 물성 분석을 지원하는 『Stand-alone 고출력 EUV 검사기 장비 기술 및 인프라 구축 사업』 공고가 발표되었습니다.
- 이번 사업은 전국 단위 모집이지만 단 3개사만 선정하며, 접수 순서에 따라 조기 종료될 수 있는 '상시모집' 형태입니다.
- 지원 규모 : 전국 3개사 내외를 선정하며, 기업당 최대 1,500만 원(15,000천 원) 이내를 지원합니다.
- 선정 기준 : 평가항목 합계 점수가 70점 이상인 기업 중 고득점순으로 선정하며, 유사 과제 중복성 검토를 거칩니다.
- 접수 기간 : 2026년 7월 20일(월) ~ 11월 20일(금) 18:00까지이며, 3개사 선정 시 상시모집이 조기 종료될 수 있습니다.
- 신청 방법 : 대전기업정보포털(DIPS, www.dips.or.kr)을 통해 온라인 접수하며, 모든 제출 서류는 압축파일 1개로 등록해야 합니다.
- 선착순 성격이 강한 모집 구조에 맞춰, EUV 소재 합성 기술이나 부품 제조 역량을 즉시 서류화합니다.
- 부채비율 500% 규정이나 자본전액잠식 여부 등 까다로운 지원 제외 요건을 사전에 검토하고 신청해야 합니다. 또한 DIPS 전산 접수 시 서류 누락이 발생하지 않도록 꼼꼼하게 체크하세 🏢 [회사 정보]
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